1930年以来，透射式电子偏光显微镜发展极快，1940年制成了扫描电子显徽镜，到20世纪50年代，由于电子透镜像差校正理论的发展和加工技术的提高，给微电子束的形成创造了条件，为制造具有广泛应用的扫描电子偏光显微镜打下了良好的基础，但当时扫描电子偏光显微镜应用的还是背敞射电子成像，由于背散射电子的能量较大，很难排除杂散电子和二次电子的干扰，成像分辨率和放大倍数均不高，分辨率在100nm左右，放大倍数只有6000-10000倍。70年代开始，扫描电镜的分辨率达到优于20nm和放大倍数达1千万倍以上。

    实验室中制成的扫描透射电子偏光显微镜已达到优于0.5nm分辨率的新水平，此外，还增加了许多图像观察，如吸收电子图像、电子荧光图像、扫描透射电子图像、电位对比图像、x射线图像，还可安装X射线显微分析装置等，因而一跃而成为各种科学研究领域(如地学，生物学，医学，冶金)、机械加工及工业部门(如纺织纤维、玻璃丝、塑料制品和陶瓷产品的检验，半导休制造、集成电路质量检查)等广泛应用的有力工具。

    扫描电镜采用扫描技术，是详细研究表面立体构造的有效工具，它在许多方面都比光学显微镜和透射式电子偏光显微镜优越:它的聚焦景深大，粗糙的样品表面都可以构成细致详细的图像;放大倍数可以连续变化，由20倍增至几十万倍以上，因此可以对所有表面情况作细致详细的观察;所用的样品很少，甚至完全不需要特殊的制备过程，不破坏样品，实现无损观察分析;因景深长，可以任意地在三维空间内构成样品立体感很强的清晰图像，配置X射线分光仪或用非分光法，可直接探测样品表面的成分，因而可兼有显微分析仪的功能，能使样品处于多种特殊环境条件下进行试验观察，如力学弯曲、磁学、电导性能观察测定，高低温条件下的相变及形态变化等等。